Giới thiệu
SU-8 2000 là chất cản quang gốc epoxy có độ tương phản cao cho các ứng dụng vi gia công và vi điện tử khác, trong đó cần có hình ảnh dày, ổn định về mặt hóa học và nhiệt.
SU-8 2000 là công thức cải tiến của SU-8, đã được các nhà sản xuất MEMS sử dụng rộng rãi trong nhiều năm. Việc sử dụng hệ dung môi phân cực hơn, khô nhanh hơn dẫn đến chất lượng lớp phủ được cải thiện và tăng thông lượng quy trình.
SU-8 2000 có sẵn trong mười hai độ nhớt tiêu chuẩn. Độ dày bôi trơn từ 0,5 đến >200 micron có thể đạt được bằng quy trình phủ một lớp. Các phần bôi trơn được phơi sáng và sau đó được kết dính chéo nhiệt sẽ không hòa tan với chất hiện hình dạng lỏng. SU-8 2000 có đặc tính hình ảnh tuyệt vời và có khả năng tạo ra các cấu trúc có tỷ lệ khung hình rất cao.
SU-8 2000 có khả năng truyền quang rất cao trên 360 nm, điều giúp cho nó trở nên lý tưởng để chụp ảnh gần các thành bên thẳng đứng trong các bôi trơn rất dày. SU-8 2000 phù hợp nhất cho các ứng dụng cố định, nơi nó được chụp ảnh, lưu hóa và để lại trên thiết bị.
Tính năng
- Phim spin coat từ <1µm đến >75µm
- Khả năng chịu nhiệt và hóa chất cao
- Trong suốt về mặt quang học
- Tương thích với thiết bị chụp ảnh i-Line
Công dụng
- Chế tạo khuôn PDMS
- Các thành phần cấu trúc như mảng vi mô, kênh lưu chất, tường pixel hiển thị và lớp điện môi
- Mặt nạ khắc khô
- Tạo mẫu nhanh
